ウエハめっき装置
大口径化、微細化への進む技術革新にもケミカルプロセスと装置のトータル設計でさらに高性能なシステムを提案致します。
省スペースな自動めっき装置、手動めっき装置、エッチング装置など主要なWetプロセスの設備をお客様のニーズに合わせ製作し提供致します。
フルオートめっき装置
- クラスター型めっき装置
- フルオートカップタイプ
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、WLP、MEMS
- 省スペース筐体(2,400mm x 2,400mm)
- 各種めっき液に対応（Au、Cu、Ni、SｎAg等）
- Cu,Ni、SnAgなど複合めっきにも対応
- 4,5インチは最大8CUP、6インチは最大6CUP、8インチは最大6Cup
- スピンリンサードライヤー搭載(ドライインドライアウト)
- レビトロポンプ仕様：ノンシアン金めっき液対応
- タッチパネルによるレシピ登録が可能
- ロット毎の操作条件登録、操業管理が可能
- 自動カソードクリーナー(オプション)
- POSFER C
(ポスファーCシリーズ) - 大量生産向けフルオートタイプ
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8インチ
- 用途：バンプ、再配線、W-CSP、MEMS
- スピンリンサードライヤー搭載（ドライインドライアウト)
- 高い面内均一性を実現するリングカソード*
- ミストプロテクト効果の高いクローズドカップ
- 自動カソードクリーナー搭載
- ロット毎の操作条件登録、管理操作が可能
- めっき処理カップ数を2カップ単位で増設可能
- SEMI-S2、SEMI-S8、CEマーキング対応可能
- POSFER E
(ポスファーEシリーズ) - 大量生産向けコンパクトなフルオートタイプ
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、W-CSP、MEMS
- フットプリントを40％削減(当社比) ワンフレーム構造
- カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
- 2カップ/1タンクでメンテナンス性向上
- スピンリンサードライヤー搭載(ドライインドライアウト)
- 高い面内均一性を実現するリングカソード
- ミストプロテクト効果の高いクローズドカップ
- 自動カソードクリーナー搭載
- ロット毎の操作条件登録、管理操作が可能
- SEMI-S2、SEMI-S8、CEマーキング対応可能
- POSFER M
(ポスファーMシリーズ) - 大量生産向けフルオートタイプ（多層膜形成）
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8インチ
- 用途：バンプ、再配線、W-CSP、MEMS
- 同一ユニット内で連続した多種類のめっきが可能
- スピンリンサードライヤー搭載（ドライインドライアウト）
- 高い面内均一性を実現するリングカソード
- ミストプロテクト効果の高いクローズドカップ
- 自動カソードクリーナー搭載
- ロット毎の操作条件登録、管理操作が可能
- めっき処理カップ数を2カップ単位で増設可能
- SEMI-S2、SEMI-S8、CEマーキング対応可能
- POSFER C-ST
(ポスファーC-ST) - 中量生産向けコンパクトなフルオートタイプ
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、W-CSP、MEMS
- 中量生産向けのコンパクトなワンフレーム構造
- カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
- スピンリンサードライヤー搭載（ドライインドライアウト）
- 高い面内均一性を実現するリングカソード
- ミストプロテクト効果の高いクローズドカップ
- 自動カソードクリーナー搭載
- ロット毎の操作条件登録、管理操作が可能
- SEMI-S2、SEMI-S8、CEマーキング対応可能
セミオートタイプ
- Stir CUP-PLATER
(スターカッププレーター) - 実験、開発、及び少量生産向けセミオートタイプ
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8,12インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、W-CSP、MEMS
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- CUP-PLATER 300
(カッププレーター300) - 実験、開発、及び少量生産向けセミオートタイプ
- 対象ウエハサイズ：12インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、W-CSP、MEMS
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- CUP-PLATER
(カッププレーター) - 実験、開発、及び少量生産向けセミオートタイプ
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、W-CSP、MEMS
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- ラックタイプセミオートめっき装置
- 対象ウエハサイズ：4,5,6,8,12インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、WLP、MEMS
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手動めっき装置
- 手動めっき装置
- 対象ウエハサイズ：2,3,4,5,6,8,12インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、WLP、MEMS
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実験機
- RAD-Plater
(ラドプレーター) - 対象ウエハサイズ：4,5,6,8インチ
- 用途：バンプ、ビア、再配線、W-CSP、MEMS
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