POSFER M

描述

类型Fully automatic type for mass production (multilayer film formation)
目标晶圆尺寸4,5,6,8 英寸
凹凸、过孔、重新布线, W-CSP, MEMS
打标SEMI-S2, SEMI-S8, CE标志
特征・ 可在同一单元内连续进行多种电镀
・ 配备旋转漂洗烘干机(干进干出)
・ 实现高面内均匀性的环形阴极
・ 具有高防雾效果的封闭杯
・ 配备自动阴极清洁器
・ 可以对每个批次的运行条件进行登记和管理。
・ 电镀杯的数量可以以2杯为单位增加。